Terra lateral perfurada do dobro do silicone fundido da pureza alta da placa de quartzo da precisão para o revestimento do vácuo da fornalha de tubo

Sílica fundida perfurada precisão da pureza alta da placa de quartzo

Esta placa de quartzo perfurada de precisão é fabricada a partir de sílica fundida de alta pureza com moagem fina nos dois lados. Apresentando furos precisamente uniformes com bordas limpas e sem lascas, oferece resistência ao calor de 1100°C e HF superior e forte durabilidade química de ácidos/alcalinos. Ideal para defletores de difusão de gás em fornos tubulares, acessórios de peças de revestimento a vácuo, suportes de sinterização de semicondutores e placas de filtro de laboratório químico.

Parâmetros do produto

Principais recursos

• Furos perfurados de precisão– Padrão de furo uniforme com bordas limpas e sem lascas, garantindo fluxo de gás consistente e desempenho mecânico confiável.
• Terreno Fino Dupla Face– Ambas as superfícies são retificadas com precisão para obter planicidade superior e espessura uniforme, garantindo suporte estável da peça e distribuição de gás.
• Resistência ao calor de 1100°C– Mantém a integridade estrutural e a estabilidade dimensional sob operação sustentada em altas temperaturas em fornos tubulares e aplicações de sinterização.
• HF e forte resistência química– Superior ao vidro borossilicato, suporta ácido fluorídrico e ácidos/álcalis concentrados para aplicações de processamento químico.
• Alta Pureza, Sem Contaminação– Sílica fundida 99,99% pura com zero precipitação de impurezas, evitando a contaminação de amostras em processos de semicondutores e de alta pureza.

Aplicativos

1. Defletor de gás do forno tubular

Placa separadora permeável a gás que suporta materiais em pó enquanto equilibra a distribuição protetora do fluxo de gás dentro de ambientes de forno tubular para tratamento térmico uniforme.

2. Dispositivo de revestimento a vácuo

Suporte de posicionamento da peça com furos passantes que permitem a circulação do gás de processo durante a deposição de filme fino a vácuo, garantindo cobertura uniforme do revestimento.

3. Transportador de sinterização de semicondutores

Placa de suporte permeável a gases para sinterização de materiais semicondutores, permitindo a liberação de gases de impurezas e exposição uniforme à atmosfera durante o processamento em alta temperatura.

4. Placa de filtro de laboratório químico

Filtro separador resistente à corrosão e placa de suporte permeável a gases de reação para aplicações em laboratórios químicos envolvendo reagentes agressivos.

Vantagens sobre o vidro borossilicato

Ao contrário das placas perfuradas de vidro borossilicato que são atacadas por HF e amolecem em altas temperaturas, esta placa de sílica fundida oferece resistência total a HF, operação sustentada a 1100°C, excelente resistência ao choque térmico sem rachaduras e alta pureza com contaminação zero, tornando-a a escolha superior para aplicações exigentes de alta temperatura, corrosivas e de alta pureza.