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Pureza alta lustrada lateral única da placa de quartzo 200x250x6mm para o dispositivo bonde do revestimento ótico do portador da bolacha do semicondutor
| Material | Quartzo da pureza alta | Dimensões | 200 mm x 250 mm x 6 mm |
|---|---|---|---|
| Superfície | Precisão lateral única polida óptica | Resistência à temperatura | Até 1100°C |
| Resistência Química | HF e resistente a ácidos/álcalis fortes | Pureza | Alta Pureza, Sem Precipitação de Metal |
| Destacar | Placa de quartzo polida de lado único,placa de quartzo 200x250x6mm,placa de quartzo portador de wafer semicondutor |
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Placa de quartzo polida de lado único 200x250x6mm
Esta placa de quartzo polida de lado único, de tamanho 200x250x6mm, possui uma superfície óptica polida de precisão com o lado oposto deixado no chão para posicionamento estável.Fabricados a partir de quartzo de alta pureza, oferece resistência ao calor a 1100°C e durabilidade química superior, ideal para portadores de wafer de semicondutores, substratos de experimentação óptica,Instalações de revestimento a vácuo e ferramentas de laboratório de alta temperatura.
Parâmetros do produto
| Parâmetro | Especificações |
|---|---|
| Materiais | Quartzo de alta pureza |
| Dimensões | 200 mm x 250 mm x 6 mm |
| Revestimento de superfície | Polido óptico de precisão unilateral |
| Resistência à temperatura | Até 1100°C |
| Resistência química | Resistente a HF e ácidos/alcalinos fortes |
| Transmissão | Alta transmissão (lado polido) |
| Expansão térmica | Baixa expansão, resistente a choques térmicos |
| Purificação | Alta pureza, sem precipitação de impurezas metálicas |
Características fundamentais
- Polido óptico de um só ladoUma superfície polida com espelho de precisão para uma excelente transmissão da luz e clareza óptica, enquanto o lado traseiro do solo proporciona um posicionamento e uma montagem estáveis.
- Resistência ao calor a 1100°CO sistema de transmissão de partículas de semicondutores é um sistema de transmissão de partículas de semicondutores que permite a transmissão de partículas de semicondutores.
- Resistência a HF e forte resistência química¢ Superior ao vidro borosilicato, resiste ao ácido fluorídrico e ácidos/álcalis concentrados para ambientes de processamento de semicondutores e químicos exigentes.
- Alta pureza, sem contaminação- 99,99% de quartzo puro com zero precipitação de impurezas metálicas, evitando a contaminação da bolacha e da amostra na fabricação de semicondutores de alta pureza.
- Baixa expansão térmicaA excelente resistência ao choque térmico impede a fissuração em ciclos de temperatura rápidos, garantindo uma fiabilidade de serviço a longo prazo em aplicações de aquecimento cíclico.
Aplicações
1Indústria de semicondutores e fotovoltaicos
A superfície polida suporta as wafers sem contaminação,Manutenção da estabilidade dimensional a altas temperaturas de processamento sem perda de impurezas.
2Indústria de instrumentos ópticos
Substrato de referência para teste de espectro e placa de base de fixação de caminho óptico..
3Processo de revestimento de precisão
Instalação de base de revestimento a vácuo para deposição de lentes ópticas, resistente a altas temperaturas de câmara e a gases de processo corrosivos durante as operações de revestimento de película fina.
4Laboratório Químico
Caixa de sinterização a alta temperatura e portador de amostras de ensaio de corrosão, compatível com HF e vários reagentes corrosivos fortes para experimentos químicos exigentes.
Vantagens em relação ao vidro borosilicato
Ao contrário das placas de vidro borosilicato que são atacadas por HF e amolecem a altas temperaturas, esta placa de quartzo polida de lado único oferece resistência total a HF, operação sustentada a 1100 ° C,acabamento de superfície de grau espelho para uma melhor transmissão da luz, baixa expansão térmica para resistência a rachaduras, e construção de alta pureza para semicondutores sem contaminação e ambientes de fabricação de precisão.

