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Substrato de quartzo de alta pureza de 180 × 15 × 5mm com resistência a altas temperaturas

  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
Lugar de origem China
Número do modelo QT-SB-180x15x5
Preço negotiable
Detalhes do produto
Material Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) Dimensões 180 mm x 15 mm x 5 mm (C x L x T)
Temperatura de operação máxima 1100ºC Acabamento de superfície Precisão retificada e polida
Coeficiente de expansão térmica 5,5 x 10^-7 /°C (CTE ultrabaixo) Resistência Química Ácido fluorídrico, ácido forte e álcali
Transmitância > 92% (faixa UV-Visível) Impureza Metálica Ultrabaixo, sem precipitação
Aplicativo Revestimento de wafer semicondutor, substrato de filme óptico, dispositivo elétrico de célula fotovo
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Substrato de quartzo de alta pureza

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substrato de quartzo de 180×15×5 mm

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substrato de quartzo resistente a altas temperaturas
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Descrição de produto

Visão geral do produto

OSubstrato de quartzo de sílica fundido de alta purezaé uma placa de vidro de quartzo de moagem de precisão (180 mm x 15 mm x 5 mm) projetada para semicondutores de ponta, revestimentos ópticos, fotovoltaicos e aplicações de laboratório.Fabricados a partir de sílica fundida de qualidade superior (SiO2 > 990,99%), este substrato oferece uma estabilidade térmica excepcional, inércia química e clareza óptica, tornando-o a escolha preferida para ambientes de fabricação de alta precisão exigentes.

Características fundamentais

  • Ultra-alta pureza:SiO2 > 99,99% com um teor de impurezas metálicas ultra-baixo.
  • Resistência à temperatura de 1100°C:Resiste a temperaturas extremas sem deformação ou degradação, superando de longe as alternativas de vidro borosilicato
  • Resistência a HF e à corrosão:Excelente resistência química contra ácido fluorídrico, ácidos fortes e álcalis ideal para processos químicos úmidos agressivos
  • Expansão térmica ultra-baixa:CTE de 5,5 x 10^-7 /°C impede rachaduras e deformações sob ciclos de temperatura rápidos
  • Alta transmissão:> 92% de transmissão através do espectro UV para o espectro visível, perfeito para aplicações de revestimento óptico e fotolitografia
  • Precisão de acabamento da superfície:As superfícies moídas e polidas de precisão garantem a planície e a deposição uniforme do revestimento

Aplicações

IndústriaAplicação
Semiconductor & MicroelectronicsVeículo de embalagem de wafer, substrato de litografia, base de revestimento a alta temperatura, plataforma de ensaio de envelhecimento de componentes eletrónicos
Óptica e fotoelétricaSubstrato óptico de revestimento de película fina, base da placa de filtro, dispositivo de revestimento a vácuo, banco de ensaio de espectro
Energia fotovoltaica e nova energiaInstalação de revestimento de células solares, difusão a alta temperatura e transportador de processo PECVD, substrato antideformação
Laboratório e Química FinaPlataforma de sinterização a alta temperatura, banco de ensaio de corrosão HF, forte suporte de reação química
Instrumento de precisãoSubstrato de referência do espectrómetro, placa de banco do equipamento de inspecção óptica

Vantagens competitivas

versus vidro borosilicato:Resiste a mais de 1100°C vs ~500°C limite; resistência superior ao ácido HF; 10x menor expansão térmica impede rachaduras; impureza de metal ultra-baixa elimina o risco de contaminação do processo

versus cerâmica de alumínio:Alta transparência óptica para aplicações visíveis por UV; acabamento de superfície mais liso para revestimento uniforme; peso mais leve e usinagem de precisão mais fácil

Especificações

ParâmetroValor
MateriaisSilício fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%)
Dimensões180 mm (L) x 15 mm (W) x 5 mm (T)
Temperatura máxima de funcionamento1100°C
TEC5.5 x 10^-7 /°C
Transmissão> 92% (UV-Visível)
Resistência químicaHF, ácido forte e álcali
Revestimento de superfícieMoído e polido com precisão
Impuridade do metalUltra-baixo, sem precipitação
Etiquetas:

Placa de vidro óptico de quartzo fundido

placa de vidro óptico fosco

placa de vidro óptico de 1100 MPa