Cavidade cônica lisa da carcaça de quartzo fundido para análise ótica da amostra

Detalhes do produto
Material Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) Dimensões da base 2mm x 2mm
Tipo de cavidade Poço Cônico Central Temperatura de operação máxima 1100ºC
Resistência Química HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos Expansão térmica CTE 5,5 x 10^-7 /°C (Baixo)
Acabamento de superfície Usinado com precisão, suave e sem lascas Pureza Sem precipitação de íons metálicos
Aplicativo Porta-amostras ópticas, base de posicionamento de semicondutores, célula de micro-reagente
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Substrato de quartzo fundido liso

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Substrato de quartzo fundido com cavidade cónica

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Análise óptica de amostras de substrato de quartzo fundido

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Descrição de produto

Visão geral do produto

OSubstrato de quartzo com cavidade cónica(base 2mm x 2mm com o centro cônico) é um componente de quartzo de alta precisão de grau óptico projetado para posicionamento de micro amostras, testes ópticos e experimentação de semicondutores.Fabricação a partir de silicio fundido, de alta pureza (SiO2 > 99), por usinagem de precisão0,99%) com um recesso cônico liso e sem chips, oferece uma estabilidade térmica excepcional até 1100°C, resistência química excepcional a HF e reagentes agressivos,e zero lixiviação iônica .

Características fundamentais

  • Cavidade cónica de precisão:Poço cônico central com acabamento liso e sem aspas para colocação e posicionamento seguros de micro amostras
  • 1100°C Resistência a altas temperaturasMantenha a estabilidade dimensional e a qualidade da superfície em condições térmicas extremas sem deformação
  • Resistência a HF e forte resistência química:Não afectado por ácido fluorídrico, ácidos concentrados, álcalis fortes e solventes orgânicos
  • Baixa expansão térmica:CTE 5,5 x 10^-7/°C garante dimensões estáveis e geometria da cavidade em largas faixas de temperatura
  • Alta pureza e Lixiviação iônica zero:SiO2 > 99,99% sem precipitação de íons metálicos, evitando a contaminação da amostra
  • Processamento de precisão:Superfície finamente polida com tolerâncias dimensionais exactas para alinhamento óptico repetível

Aplicações

IndústriaAplicação
Teste de amostras ópticasDetentor de ponto fixo para amostras de micropartículas e de pó com base transparente que permita a detecção da transmissão da luz e a análise espectroscópica
Experimentação com semicondutoresBase de posicionamento e alinhamento para micro componentes com cavidade de precisão que restrinja o movimento durante o ensaio
Ensaios microquímicosCélula reagente de nanolitro com recessão cónica para reações químicas de microvolume e análise ao microscópio

Vantagens competitivas

versus Substrato de plástico/polímero:Os plásticos incham e se degradam em solventes orgânicos e não suportam altas temperaturas; este substrato de quartzo resiste a todos os solventes e ácidos, resiste a 1100 °C,e pode ser limpo e reutilizado repetidamente sem degradação

versus Substrato de vidro borosilicato:O vidro borosilicato amolece acima de 500 °C e é atacado por HF; o substrato de quartzo mantém a integridade a 1100 °C e é totalmente resistente ao ácido fluorídrico e a todos os meios corrosivos

Especificações

ParâmetroValor
MateriaisSilício fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%)
Dimensões da base2 mm x 2 mm
Tipo de cavidadePoço cônico cônico
Temperatura máxima de funcionamento1100°C
Resistência químicaHF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos
Expansão térmicaCTE 5,5 x 10^-7 /°C (baixo)
Revestimento de superfícieMáquinas de precisão, suaves e sem chips
PurificaçãoSem precipitação de íons metálicos