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| Material | Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) | Dimensões da base | 2mm x 2mm |
|---|---|---|---|
| Tipo de cavidade | Poço Cônico Central | Temperatura de operação máxima | 1100ºC |
| Resistência Química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos | Expansão térmica | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (Baixo) |
| Acabamento de superfície | Usinado com precisão, suave e sem lascas | Pureza | Sem precipitação de íons metálicos |
| Aplicativo | Porta-amostras ópticas, base de posicionamento de semicondutores, célula de micro-reagente | ||
| Destacar | Substrato de quartzo fundido liso,Substrato de quartzo fundido com cavidade cónica,Análise óptica de amostras de substrato de quartzo fundido |
||
Visão geral do produto
OSubstrato de quartzo com cavidade cónica(base 2mm x 2mm com o centro cônico) é um componente de quartzo de alta precisão de grau óptico projetado para posicionamento de micro amostras, testes ópticos e experimentação de semicondutores.Fabricação a partir de silicio fundido, de alta pureza (SiO2 > 99), por usinagem de precisão0,99%) com um recesso cônico liso e sem chips, oferece uma estabilidade térmica excepcional até 1100°C, resistência química excepcional a HF e reagentes agressivos,e zero lixiviação iônica .
Características fundamentais
- Cavidade cónica de precisão:Poço cônico central com acabamento liso e sem aspas para colocação e posicionamento seguros de micro amostras
- 1100°C Resistência a altas temperaturasMantenha a estabilidade dimensional e a qualidade da superfície em condições térmicas extremas sem deformação
- Resistência a HF e forte resistência química:Não afectado por ácido fluorídrico, ácidos concentrados, álcalis fortes e solventes orgânicos
- Baixa expansão térmica:CTE 5,5 x 10^-7/°C garante dimensões estáveis e geometria da cavidade em largas faixas de temperatura
- Alta pureza e Lixiviação iônica zero:SiO2 > 99,99% sem precipitação de íons metálicos, evitando a contaminação da amostra
- Processamento de precisão:Superfície finamente polida com tolerâncias dimensionais exactas para alinhamento óptico repetível
Aplicações
| Indústria | Aplicação |
|---|---|
| Teste de amostras ópticas | Detentor de ponto fixo para amostras de micropartículas e de pó com base transparente que permita a detecção da transmissão da luz e a análise espectroscópica |
| Experimentação com semicondutores | Base de posicionamento e alinhamento para micro componentes com cavidade de precisão que restrinja o movimento durante o ensaio |
| Ensaios microquímicos | Célula reagente de nanolitro com recessão cónica para reações químicas de microvolume e análise ao microscópio |
Vantagens competitivas
versus Substrato de plástico/polímero:Os plásticos incham e se degradam em solventes orgânicos e não suportam altas temperaturas; este substrato de quartzo resiste a todos os solventes e ácidos, resiste a 1100 °C,e pode ser limpo e reutilizado repetidamente sem degradação
versus Substrato de vidro borosilicato:O vidro borosilicato amolece acima de 500 °C e é atacado por HF; o substrato de quartzo mantém a integridade a 1100 °C e é totalmente resistente ao ácido fluorídrico e a todos os meios corrosivos
Especificações
| Parâmetro | Valor |
|---|---|
| Materiais | Silício fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%) |
| Dimensões da base | 2 mm x 2 mm |
| Tipo de cavidade | Poço cônico cônico |
| Temperatura máxima de funcionamento | 1100°C |
| Resistência química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos |
| Expansão térmica | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (baixo) |
| Revestimento de superfície | Máquinas de precisão, suaves e sem chips |
| Purificação | Sem precipitação de íons metálicos |

