65x2,9x2mm Sapphire Substrate Precision Polished Laser Equipment Carrier Base

Lugar de origem China
Quantidade de ordem mínima 10 peças
Detalhes da embalagem Caixa ondulada de qualidade para exportação com proteção de espuma
Tempo de entrega 7 a 15 dias úteis
Termos de pagamento T/T, PayPal, Western Union
Detalhes do produto
Dimensão 65 x 2,9 x 2 mm Material Safira de cristal único (alumina)
Acabamento de superfície Precisione moído e polido Tolerância Tolerância dimensional apertada
Isolamento Excelente desempenho isolante Personalização Polimento de lado único/duplo, ranhura, perfuração, revestimento
Destacar

Substrato de safira 65x2

,

9x2mm

,

Substrato portador de equipamento a laser

Deixe um recado
Descrição de produto
Substrato de Safira 65x2,9x2mm Base Transportadora de Equipamento a Laser Polida de Precisão
Nome do Produto

O Substrato de Safira é um componente de tira fina de precisão com uma dimensão de 65 x 2,9 x 2mm, fabricado a partir de safira monocristalina para aplicações ópticas e a laser exigentes. O substrato é retificado e polido com precisão para tolerâncias dimensionais rigorosas, fornecendo uma superfície plana e limpa para a montagem de elementos ópticos e componentes a laser. Sem precipitação sob serviço prolongado em alta temperatura e com excelente desempenho de isolamento, o substrato mantém a pureza e a estabilidade em condições operacionais extremas. Sua resistência mecânica e resistência ao desgaste são muito superiores à sílica fundida, tornando-o uma escolha durável para janelas de instrumentos, bases de sensores e transportadoras de equipamentos a laser.

Especificação
ParâmetroEspecificação
Dimensão65 x 2,9 x 2mm
MaterialSafira monocristalina (alumina)
Acabamento da SuperfícieRetificado e polido com precisão
TolerânciaTolerância dimensional rigorosa
IsolamentoÓtimo desempenho de isolamento
PersonalizaçãoPolimento unilateral/bilateral, ranhuramento, perfuração, revestimento
Características Principais
  • Tira fina retificada e polida com precisão: O tarugo longo e fino é finalizado com alta qualidade de superfície e planicidade para montagem óptica.
  • Tolerância dimensional rigorosa: Comprimento, largura e espessura são controlados dentro de limites estreitos para montagem confiável.
  • Sem precipitação sob alta temperatura prolongada: O material de safira puro não libera contaminantes em serviço de alta temperatura.
  • Ótimo desempenho de isolamento: Excelente isolamento elétrico suporta o uso em sistemas eletrônicos e ópticos sensíveis.
  • Maior resistência mecânica e ao desgaste do que a sílica fundida: O substrato resistente resiste a impactos, desgaste e danos de manuseio.
  • Processamento personalizável: Polimento unilateral ou bilateral, ranhuramento, perfuração e revestimento podem ser adaptados às necessidades.
Aplicação

O Substrato de Safira é projetado para sistemas ópticos, a laser e de sensoriamento que requerem uma plataforma forte, estável e precisamente dimensionada. É amplamente utilizado como uma janela de instrumento óptico de precisão, fornecendo uma abertura durável e transparente para transmissão de luz. Em sistemas a laser, o substrato serve como um substrato transportador para equipamentos a laser, suportando componentes com excelente estabilidade térmica e mecânica. O componente também é adotado como uma placa de visualização de inspeção de alta temperatura, permitindo a observação de processos em temperaturas elevadas. Em sistemas de sensoriamento, funciona como um substrato de transmissão de luz para sensores, combinando clareza óptica com isolamento elétrico. Além disso, o substrato é usado como uma peça óptica para analisadores espectrais, oferecendo desempenho consistente entre lotes.

Vantagens
  • Retificação e polimento de precisão para tarugos de tira fina: Tolerância dimensional rigorosa garante ajuste preciso em montagens de precisão.
  • Sem precipitação e ótimo isolamento: Serviço prolongado em alta temperatura mantém o substrato puro e eletricamente seguro.
  • Resistência mecânica e ao desgaste superior: Muito mais forte que a sílica fundida, o substrato resiste a arranhões e impactos.
  • Personalização completa: Processos de polimento, ranhuramento, perfuração e revestimento estão disponíveis para atender às necessidades da aplicação.
  • Desempenho óptico consistente em produção em massa: Uniformidade de lote oferece resultados repetíveis para aplicações em volume.