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36x32x580mm Quartz de alta pureza Instrumento Resistência ao calor Ácido à prova de alcalinos Para purificação de destilação de laboratório
Detalhes do produto
| Material | Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) | Dimensões | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
|---|---|---|---|
| Temperatura de operação máxima | 1100ºC | Resistência Química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos |
| Resistência ao choque térmico | Excelente, baixo CTE 5,5 x 10^-7 /°C | Transmitância | Faixa UV-Visível |
| Pureza | Sem precipitação de íons metálicos | Aplicativo | Destilação de laboratório, purificação química fina, pré-tratamento de semicondutores, digestão ambi |
| Destacar | Instrumento de quartzo de 36x32x580mm,Instrumento de quartzo de alta pureza,Instrumento de quartzo de purificação química |
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Descrição de produto
Visão geral do produto
OInstrumento de quartzo de alta pureza(36 mm x 32 mm x 580 mm) é um recipiente de vidro de quartzo versátil projetado para aplicações químicas, semicondutores e ambientais exigentes.Oferece uma estabilidade térmica excepcional até 1100°C, excelente inércia química contra HF e meios corrosivos fortes, e zero precipitação de íons metálicos ¢ tornando-o a escolha preferida para processamento químico de alta pureza e fluxos de trabalho analíticos.
Características fundamentais
- 1100°C Resistência a altas temperaturasAdequado para fogo directo e aquecimento eléctrico; mantém a integridade estrutural em condições térmicas extremas sem deformação
- Forte resistência a ácidos e álcalis:Resistência química excepcional ao ácido fluorídrico, ácidos concentrados, álcalis fortes e solventes orgânicos
- Alta pureza sem precipitação de metais:SiO2 > 99,99% com zero lixiviação iônica, evitando a contaminação da amostra em processos analíticos e de purificação sensíveis
- Excelente resistência ao choque térmico:Baixo coeficiente de expansão térmica evita rachaduras durante ciclos rápidos de aquecimento e resfriamento, muito superior ao vidro borosilicato
- Alta transmissão:Excelente clareza óptica em toda a faixa UV visível para monitorização visual de reações e processos
Aplicações
| Indústria | Aplicação |
|---|---|
| Química de laboratório | Receptor de reacção de destilação e refluxo a alta temperatura para reagentes HF e ácidos/álcalis concentrados sob fogo direto ou aquecimento eléctrico;utilizados para purificação de materiais e análise físico-química |
| Química fina e novos materiais | Conveio de purificação de síntese húmida e decapagem ácida para matérias-primas de alta pureza; impede a dopagem de impurezas metálicas para garantir a pureza do produto final |
| Indústria de semicondutores | Reagente de destilação de qualidade electrónica e recipiente de pré-tratamento de matérias-primas precursoras; satisfaz os requisitos de fabricação ultralimpas para materiais electrónicos |
| Ensaios ambientais | Célula de digestão a alta temperatura para pré-processamento de amostras de gases residuais e líquidos; resistente à corrosão contra reagentes de digestão agressivos |
Vantagens competitivas
versus instrumento de vidro de borosilicato:Resiste ao ácido fluorídrico e à operação contínua a 1100°C contra um limite de ~500°C; uma excelente resistência ao choque térmico impede a fissuração sob mudanças rápidas de temperatura;Ultra-alta pureza elimina a precipitação de íons e a contaminação da amostra
versus instrumento PTFE/teflão:Adequado para aplicações a altas temperaturas em que o PTFE amolece acima de 260°C; parede transparente permite o monitoramento visual do processo; estrutura rígida mantém a estabilidade dimensional sob ciclo térmico
Especificações
| Parâmetro | Valor |
|---|---|
| Materiais | Silício fundido de alta pureza (SiO2 > 99,99%) |
| Dimensões | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
| Temperatura máxima de funcionamento | 1100°C |
| Resistência química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos |
| Resistência a choques térmicos | Excelente, CTE baixa 5,5 x 10^-7 /°C |
| Transmissão | Faixa UV-Visível |
| Purificação | Sem precipitação de íons metálicos |
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