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| Material | Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) | Processo de formação | Conformação Integral a Quente |
|---|---|---|---|
| Temperatura de operação máxima | 1100ºC | Resistência Química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos |
| Expansão térmica | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (Baixo) | Acabamento de superfície | Bordas suaves e polidas |
| Pureza | Sem precipitação de íons metálicos | Aplicativo | Sinterização de forno tubular, recozimento de semicondutores, incineração de laboratório, pesquisa e |
| Destacar | Barco de sílica fundida de alta pureza,barco de quartzo de formação integral,barco de quartzo para bandeja de recozimento semicondutor |
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Visão geral do produto
OBarco de quartzo de sílica fundida de alta purezaé um transportador de alta temperatura formado com precisão, projetado para sinterização em fornos tubulares, processamento de semicondutores e aplicações térmicas de laboratório. Fabricado através de conformação a quente integral para espessura de parede uniforme e superfícies finamente polidas, oferece excelente estabilidade térmica até 1100°C, resistência química superior ao ácido fluorídrico e reagentes corrosivos concentrados e precipitação zero de impurezas — garantindo processamento livre de contaminação para os ambientes industriais e de pesquisa mais exigentes.
Principais recursos
- Formação Integral a Quente:A construção em peça única garante espessura uniforme da parede, integridade estrutural e elimina juntas ou costuras fracas
- Resistência a altas temperaturas de 1100°C:Mantém a estabilidade dimensional e a resistência mecânica sob operação prolongada em alta temperatura em fornos tubulares
- HF e forte resistência química:Excelente durabilidade química contra ácido fluorídrico, ácidos concentrados, álcalis fortes e solventes orgânicos
- Excelente estabilidade ao choque térmico:O baixo coeficiente de expansão térmica (CTE 5,5 x 10^-7/°C) evita rachaduras durante ciclos rápidos de aquecimento-resfriamento
- Precipitação de Impureza Zero:SiO2 > 99,99% de pureza garante nenhuma lixiviação de íons metálicos, protegendo o wafer e a integridade da amostra
- Acabamento de precisão:Superfície finamente polida com dimensões padronizadas, bordas lisas e sem lascas para manuseio seguro de amostras
Aplicativos
| Indústria | Aplicativo |
|---|---|
| Sinterização em forno tubular | Transportador para calcinação em alta temperatura de pós, wafers e substratos cerâmicos em fornos tubulares com atmosfera controlada |
| Processamento de semicondutores | Bandeja de pré-tratamento de alta temperatura para recozimento e pré-revestimento de wafer, garantindo condições ultralimpas e livres de contaminação |
| Testes de Laboratório | Experimento de incineração e recipiente de amostra de imersão corrosiva para química analítica e caracterização de materiais |
| Pesquisa e desenvolvimento de novos materiais | Síntese de pó e recipiente de tratamento térmico precursor para desenvolvimento de materiais avançados |
Vantagens Competitivas
vs. Barco de vidro borossilicato:O vidro borossilicato não resiste ao ácido fluorídrico e amolece em altas temperaturas; este barco de quartzo resiste à corrosão forte e mantém a integridade mecânica através de repetidos ciclos térmicos de 1100°C sem deformação ou rachaduras
vs. Barco de Alumina/Cerâmica:A resistência superior ao choque térmico permite um rápido aquecimento-resfriamento; parede transparente permite monitoramento visual do processo; zero impureza metálica elimina o risco de contaminação de wafers e amostras
Especificações
| Parâmetro | Valor |
|---|---|
| Material | Sílica fundida de alta pureza (SiO2 > 99,99%) |
| Processo de formação | Conformação Integral a Quente |
| Temperatura máxima de operação | 1100ºC |
| Resistência Química | HF, ácidos fortes e álcalis, solventes orgânicos |
| Expansão Térmica | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (Baixo) |
| Acabamento de superfície | Bordas suaves e polidas |
| Pureza | Sem precipitação de íons metálicos |

