Reator de laboratório de digestão química de alta pureza de silício fundido de quartzo

Lugar de origem China
Número do modelo QTA-HP-CUSTOM
Preço negotiable
Termos de pagamento T/T,L/C,PayPal,Western Union
Detalhes do produto
Material Silício fundido de alta pureza Construção Integralmente fundido ou ligado
Superfície Solo fino de dois lados, parede interna lisa Resistência à temperatura ≤1100°C Trabalho Contínuo
Resistência Química HF e concentrado forte resistente a ácidos/álcalis
Destacar

Tanque de Quartzo de Alta Pureza

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Tanque de Quartzo de Silício Fundido

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Tanque de Quartzo de Decoração de Wafer

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Descrição de produto

Tanque de quartzo de sílica fundida de alta pureza

Este tanque de quartzo de sílica fundido de alta pureza possui espessura de parede uniforme, superfícies de solo finas de dois lados e uma construção integralmente fundida ou ligada.Com temperatura de trabalho contínua ≤ 1100°C e durabilidade química superior HF/ácido forte, oferece um desempenho fiável para decapagem de wafer de semicondutores, digestão de amostra a alta temperatura,Reacções químicas com reagentes e calcinação a céu aberto em laboratório.

Parâmetros do produto

ParâmetroEspecificações
MateriaisSilício fundido de alta pureza
ConstruçãoCom um diâmetro superior a 50 mm
Espessura da paredeO uniforme
Revestimento de superfícieDois lados, solo fino, parede interna lisa
Temperatura de funcionamento≤ 1100°C Contínua
Resistência químicaHF e resistentes a ácidos/alcalinos fortes concentrados
Expansão térmicaBaixo, resistente a aquecimento e resfriamento rápidos
PurificaçãoAlta pureza, sem precipitação de metais pesados

Características fundamentais

  • Resistência a HF e forte resistência química- Completamente resistente ao ácido fluorídrico e aos ácidos/álcalis fortes concentrados, adequado para imersão prolongada de reagentes corrosivos que destruam os tanques de vidro de borosilicato.
  • ≤ 1100°C Função contínua- Mantenha a integridade estrutural em altas temperaturas sustentadas para digestão, calcinação e processos químicos a altas temperaturas, sem amolecimento ou deformação.
  • Alta pureza, sem contaminação- 99,99% de sílica fundida pura com zero precipitação de metais pesados, garantindo nenhuma contaminação cruzada durante o processamento de wafers de semicondutores e aplicações químicas de alta pureza.
  • Baixa expansão térmica- Excelente resistência a choques térmicos, resistente a ciclos rápidos de aquecimento e arrefecimento sem rachaduras, permitindo uma utilização cíclica repetida em ambientes laboratoriais e industriais exigentes.
  • Parede interna lisaA superfície interior polida com precisão permite uma limpeza fácil e uma adesão mínima dos resíduos, reduzindo o risco de contaminação cruzada entre os lotes.

Aplicações

1. Decantação de ácido úmido

Tanque de imersão em ácido para processos de decapagem e limpeza de wafers fotovoltaicos, de vidro óptico e de semicondutores, com resistência total a HF e ácido, garantindo uma operação fiável a longo prazo.

2Digestão a Alta Temperatura

Contenedor de digestão e evaporação de amostras para análise química, ensaios ambientais e análises laboratoriais, resistente a aquecimento prolongado e a reagentes de digestão corrosivos.

3Produção química em pequena escala

Reacção com reagentes corrosivos, purificação e tanque de armazenamento temporário para ensaios químicos em escala piloto, com construção de quartzo inerte que impede reações secundárias indesejadas.

4Sinterização em laboratório

Contenedor de calcinação aberto para matérias-primas em pó em fornos elétricos de laboratório, com estabilidade a altas temperaturas e construção não contaminante para resultados experimentais repetíveis.

Vantagens em relação ao vidro borosilicato

Ao contrário dos tanques de vidro borosilicato atacados por HF e suavizados a altas temperaturas, este tanque de quartzo de sílica fundido oferece resistência total a HF, operação sustentada a 1100 °C,Excelente resistência a choques térmicos para utilização cíclica, e alta pureza sem precipitação de metais pesados, tornando-o a escolha definitiva para o processamento de wafers de semicondutores, digestão a alta temperatura e aplicações químicas corrosivas.